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產品詳情

介紹

反射式平面刻劃光柵，通常用于需要高效率的應用。


特點

高光譜分辨率

應用

比色法

高效液相色譜法HPLC

通訊

生命科學

分析儀器


案例

 

Littrow結構光譜儀

  

C-T結構光譜儀

清單

槽型

平面基底上的等間距非平行凹槽：鋸齒輪廓

雜散光

良好的周期性和優(yōu)異的表面粗糙度

閃耀波段

250~45um

衍射效率

超過90% UV/VIS/NIR

刻線密度

20gr/mm~1800gr/mm

基底尺寸

25x25mm~120x140mm

尺寸誤差

長寬：0~±0.1mm

厚度：±0.1mm

有效區(qū)域

四周各留有不大于2mm的冗余量

基底材質

常用Borofloat 33*，其他材質可選

鍍膜

鋁膜*

*特殊說明：基底和鍍膜可定制。

可根據(jù)要求提供基底：包括熔融石英、Zerodur、ULE、金屬或其他材料。

鍍膜應要求：AlMgF2、金或鉑。

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